從廢舊金屬中的雜質(zhì)元素的分析、來料檢測，到鑄造過程中的QAQC、熔體控制以及成品檢測，連貫的質(zhì)量控制在整個金屬加工行業(yè)中都至關(guān)重要。
OE750光電直讀光譜儀是用于確定各種金屬的元素組成的非常值得信賴和廣泛使用的分析技術(shù)。
日立的OE750光電直讀光譜儀采用*CMOS和CCD技術(shù)，提供準(zhǔn)確性和精確性最高的分析結(jié)果。功能強(qiáng)大又簡單易用的軟件包，覆蓋幾乎所有的應(yīng)用范圍。

OE750光電直讀光譜儀實現(xiàn)高分辨率和寬動態(tài)范圍要歸功于采用了*CMOS探測器技術(shù)的***新光學(xué)理念。其中有四項**正處于申請狀態(tài)。因此，這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長范圍；這意味著該分析儀能測量金屬中ppm級別的所有元素。這對于滿足當(dāng)今嚴(yán)格的金屬規(guī)格分析至關(guān)重要，該分析儀可以滿足新的ASTM E415標(biāo)準(zhǔn)中關(guān)于碳鋼和低合金鋼的試驗方法的要求。　

OE750光電直讀光譜儀是鋁鑄件的理想光譜儀，因為它可以測定亞共晶和過共晶鋁硅合金中含量極低的磷。它可以分析銻、鉍、鍶和鈉，以及雜質(zhì)和痕量元素，從而確保這些元素能夠被控制在鋁熔體中，以優(yōu)化結(jié)構(gòu)改造。**性光學(xué)設(shè)計能實現(xiàn)更短的啟動時間，因為光學(xué)系統(tǒng)的體積相對較小。這有助于那些需要在多點測量驗證熔體質(zhì)量的工廠實現(xiàn)高批量生產(chǎn)。

除了新的光學(xué)設(shè)計之外，OE750光電直讀光譜儀還有其他支持大批量金屬分析的技術(shù)特性。它有一個新的密封火花臺，具有優(yōu)化層流設(shè)計，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并大大降低維護(hù)要求。帶有低壓氬氣吹掃的*中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。這使得OE750具有高可靠性和低運行成本。

新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如，它包括日立牌號數(shù)據(jù)庫，該數(shù)據(jù)庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標(biāo)準(zhǔn)，減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤。可選的爐料校正軟件會自動計算添加至熔體中的正確材料量，使其符合規(guī)范。